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ASML给中国展示7nm光刻机!

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  天下光刻机巨子ASML表态第三届进博会。在本次进博会上,ASML在本身的展台上晒出展现了DUV光刻机。

  据悉,ASML之所以没有展现新的EUV光刻机,重要是因为他们现在仍不能向中国出口EUV光刻机,而此次展现的DUV光刻机可生产7nm及以上制程芯片。

  

  ASML此次也带来了其团体光刻解决方案,包含先进掌握能力的光刻机台盘算光刻和丈量经由过程建模、仿真、剖析等手艺,让边沿定位精度不断提高。

  在这之前,ASML CFO Roger Dassen在财报集会的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的营业状况,其示意一些状况下,出口光刻机是不需要许可证的。

  Roger Dassen指出,ASML相识美国政府现在的规章制度及其诠释,固然也晓得这些与特定的中国客户密切相关,但假如普遍的来明白其规章制度对ASML的整体寄义(关于特定的中国客户),则意味着ASML将可以从荷兰向这些中国客户供应DUV光刻体系,且无需出口许可证。

  美国仅仅是限定了美国不能给中国出口芯片、光刻机等,但并没有限定其他国家对中国入口,荷兰并不在美国的禁令范围内。

  现在的光刻机重要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。个中,液浸式于ASML手中降生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经由多重暴光后,液浸式光刻机也可以到达7nm工艺。然则,每多一次暴光都邑使得制作本钱大大提拔,而且良品率也难以掌握。

  EUV光刻机采纳13.5nm波长的光源,是打破10nm芯片制程节点必不可少的东西。也就是说,就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那边找到替换,但假如没有ASML的EUV光刻机,芯片巨子台积电、三星、Intel的5nm产线就没法投产。

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